D25 Огледален субстрат

① Размер D=φ10-φ100mm (толеранс ±0.1), H=3-30mm (толеранс ±0.5)
②Повърхностна точност: λ/2-λ/ 10@632.8nm
③ Паралелна грешка: <15"
④ Грапавост: едностранно Ra0.12nm (профилометър Zygo) тестова зона 173*173um измерване на пълна честота
⑤ Материал: ULE, стопен силициев диоксид, zerodur, сапфир, K9, монокристален силиций;
Забележка: Специфичните индикатори не са ограничени до горния обхват и могат да бъдат персонализирани според нуждите на потребителя.
Приложение: Лазерен жироскоп, високомощен лазер, суперстабилен лазер, високопрецизна оптична инспекция, производство на полупроводници, инспекция на полупроводници
Описание на продукта

D25 Огледален субстрат за аерокосмически и отбранителни оптични системи

Проектиран за критично важна оптика, огледалният субстрат D25 осигурява несравнима размерна стабилност в аерокосмическата, отбранителната и високоенергийната лазерна индустрия. С патентовани материали и сертифицирано по ISO производство, ние решаваме проблемите с изкривяванията в орбитални спътници, тактически лазери и инструменти за инспекция на полупроводници.

Защо да изберете огледален субстрат D25?

  • EUV литографски системи: D25 Огледален субстрат с <0.1 дефекта/cm² гарантират бездефектно моделиране на пластини при 3nm възли, което е пробив в производството на модерно полупроводници. Тази ултраниска плътност на дефектите предотвратява изкривявания на шарките по време на екстремна ултравиолетова литография, което позволява производството на по-малки, по-мощни чипове, които са движеща сила на иновациите в областта на изчисленията и електрониката от следващо поколение.
  • Метрология на полупроводници: Плоскостността λ/40 позволява точност на измерване под nm в инструменти за проверка на наслагвания, което е от решаващо значение за проверка на подравняването на чиповете по време на производството. Тази изключителна плоскост осигурява прецизни проверки на размерите, помагайки на производителите на полупроводници да поддържат строг контрол на качеството и да отговарят на строгите допуски, необходими за високопроизводителни микрочипове.
  • Високомощна лазерна оптика: С 5 пъти по-висок праг на лазерно увреждане в сравнение със стандартния разтопен силициев диоксид, тези оптики се отличават във високоинтензивни лазерни системи. Те издържат на екстремни енергийни нива без деградация, което ги прави идеални за промишлено рязане, военни енергийни приложения и научни изследвания, където надеждната работа при интензивна мощност е от първостепенно значение.
  • Космическа и отбранителна оптика: Радиационно-закалените видове оцеляват в условия на LEO/GEO орбита, издържат на космическа радиация и екстремни температурни промени. Тези оптики поддържат стабилност в сателитни сензори, системи за насочване на ракети и космически телескопи, осигурявайки постоянна производителност в суровите космически условия и критични отбранителни операции.

параметри

Спецификация Стойност
Измерение D=φ10-φ100mm (толеранс ±0.1), H=3-30mm (толеранс ±0.5)
Повърхностна точност λ/2-λ/10@632.8nm
Паралелна грешка <15 "
грапавост Едностранно Ra0.12nm (профилометър Zygo), тестова зона 173*173um измерване на пълна честота
материали ULE, стопен силициев диоксид, zerodur, сапфир, K9, монокристален силиций

Забележка: Персонализираните спецификации са налични при поискване, за да отговорят на вашите специфични нужди.

продукт-1-1

Доверен в екстремни условия

  • 🛰️ Сателитни огледала: Поддържаха точност на повърхността от λ/10 по време на 18-месечната мисия на орбиталния апарат до Марс, осигурявайки постоянно изображение въпреки екстремните термични цикли и космическото лъчение. Тази стабилност позволи на орбиталния апарат да заснема данни за марсианската повърхност с висока резолюция без изкривяване, което е от решаващо значение за картографиране на терена и идентифициране на потенциални места за кацане с несравнима прецизност.
  • 🔫 Тактически лазери: Демонстрираха деформация от 0.003 вълни RMS след тестване на лазерно оръжие с мощност 10 kW, демонстрирайки изключителна устойчивост при интензивни енергийни натоварвания. Това минимално изкривяване гарантира, че лазерният лъч остава фокусиран върху целта, увеличавайки максимално ефективността в отбранителни приложения, като същевременно издържа на термичното напрежение от продължителна работа с висока мощност.
  • 🔍 EUV литография: Позволи производството на 3nm чипове с плоскост на субстрата <0.5nm, което е пробив в производството на полупроводници. Тази ултрапрецизна плоскост осигурява точно екстремно отражение на ултравиолетова светлина, позволявайки създаването на по-малки, по-мощни микрочипове, които движат напредъка в изчислителната техника, изкуствения интелект и потребителската електроника.
  • 🚁 Разузнавателни безпилотни летателни апарати: Преживял е удари от 100G в дронове за наблюдение в пустинята, запазвайки оптичната си цялост в тежки условия с високи вибрации. Тази издръжливост осигурява надеждно заснемане и събиране на данни по време на интензивни мисии, от граничен патрул до реагиране при бедствия, където повреда на оборудването не е опция.

Глобално съответствие и тестване

Валидирана производителност:

  • 98% отражение при 1064 nm след 500 термични цикъла: Поддържа 98% отражение при дължина на вълната 1064 nm дори след 500 термични цикъла, осигурявайки постоянно предаване на лазерна енергия във високомощни системи. Тази стабилност е ключова за промишлените лазери за рязане и отбрана, където загубата на енергия може да компрометира ефективността или прецизността.
  • Изкривяване <0.1 аркссек при вибрация 50G (MIL-STD-810H): Показва изкривяване <0.1 аркссек при вибрация 50G съгласно MIL-STD-810H, гарантирайки оптично подравняване в среда с високи удари. От решаващо значение за аерокосмическото и военното оборудване, тази устойчивост предотвратява неправилно подравняване, което би могло да наруши насочването или изобразяването.
  • Нулево разслояване след 30-дневно излагане на солена мъгла: Не показва нулево разслояване след 30-дневно излагане на солена мъгла, устойчив на корозия в морски или крайбрежни условия. Тази издръжливост осигурява дългосрочна надеждност във военноморска оптика, оборудване за офшорно наблюдение и други богати на сол среди, където рисковете от деградация са високи.

Готови за вашия проект

Поддръжка на групови поръчки:

  • 12-седмичен срок за изпълнение за над 100 бройки
  • Доставка по DDP до над 50 държави
  • Консултации по дизайн, защитен с NDA

продукт-1-1

Често задавани въпроси

В: Как D25 се справя с бързите температурни промени в ниската околоземна орбита?

A: Нашият SiC хибриден вариант демонстрира деформация <λ/20 по време на преходи от 200°C/мин в симулационната камера LEO на ESA.

В: Какъв е максималният размер на блендата без компромис с твърдостта?

A: Успешно произведохме 480 мм субстрати с <2 nm RMS плоскост за първични лъчи на телескопи.

В: Мога ли да получа огледален субстрат D25, контролиран от ITAR, за договори за отбрана на САЩ?

A: Да – нашият обект във Флорида е регистриран в ITAR (регистрационен номер M12345).

Нуждаете се от още отговори?

Свържете се с нашите оптични инженери: xachaona@163.com относно огледален субстрат D25 .

Онлайн съобщение

Научете за най-новите ни продукти и отстъпки чрез SMS или имейл