D12.7 Сферичен огледален субстрат

D12.7 Сферичен огледален субстрат | Прецизна оптика за образни и лазерни системи

Създаването на изключителни оптични характеристики започва с прецизно проектирани компоненти. Сферичният огледален субстрат D12.7 осигурява повърхностна точност под нанометър (≤λ/10 @632.8 nm) в компактен формат с диаметър 12.7 мм, идеален за лазерни системи, инструменти за проверка на полупроводници и устройства за изображения с висока резолюция. Изработен от стъкло с ултраниско разширение (ULE®) или разтопен силициев диоксид, този субстрат осигурява термична стабилност (CTE ≤5×10⁻⁸/°C) и отговаря на стандартите ISO 9001:2015/MIL-PRF-13830B.

Основни приложения

• Лазерни системи: Поддържат целостта на лъча във високомощни лазери и жироскопи с прецизно проектирани компоненти, които са устойчиви на термично изкривяване и минимизират отклонението. Тези решения осигуряват постоянна производителност дори при екстремни оперативни натоварвания, което е от решаващо значение за жироскопия с отбранително качество и приложения за индустриално лазерно рязане.
• Производство на полупроводници: Осигуряване на откриване на дефекти в EUV литографски модули с ултраплоски огледала и лещи (точност на повърхността λ/20). Грапавостта под нанометъра намалява разсейването на светлината, позволявайки прецизно изобразяване на наномащабни характеристики в процесите на производство на чипове от следващо поколение.
• Медицинско изобразяване: Намалете изкривяването на вълновия фронт в ЯМР и микроскопски системи, използвайки специално извита оптика с толеранс на радиус ±0.05%. Тези компоненти подобряват разделителната способност в диагностичните инструменти, поддържайки по-ясни OCT сканирания и по-точно биомедицинско изобразяване за минимално инвазивни процедури.
• Аерокосмическа оптика: Издържат на термични цикли в сателитни сензорни сглобки чрез ULE® стъкло и Zerodur подложки (термична стабилност <1e-6/°C). Близо до нулевото разширение на материалите осигурява оптично подравняване по време на изстрелване и операции в орбита, жизненоважно за астрономически наблюдения и мисии за дистанционно наблюдение.

параметри

Забележка: Спецификациите могат да бъдат персонализирани, за да отговорят на вашите специфични нужди.

Защо да изберете нашия субстрат за сферично огледало D12.7?

1. ✅ Материали с нулева порьозност: ULE® и подложките от разтопен силициев диоксид елиминират подповърхностните дефекти, което е критична характеристика за приложения с високоенергийни лазери, където целостта на материала предотвратява оптично разрушаване. Тези непорьозни материали осигуряват равномерно предаване на енергия и дълготрайна издръжливост при интензивни термични натоварвания.

2. ✅ Детерминистично микрошлифоване: Патентованите CNC процеси постигат λ/20 повърхностни фигури със 100% интерферометрична валидация, осигурявайки прецизност, надвишаваща индустриалните стандарти. Този детерминистичен подход гарантира повторяеми резултати, идеални за критична оптика в аерокосмическата индустрия и производството на полупроводници.

3. ✅ Бързо прототипиране: Получавайте готови за тестване подложки в рамките на 15 работни дни – 5 пъти по-бързо от средните за индустрията. Нашият рационализиран работен процес съчетава усъвършенствана машинна обработка с вътрешнофирмено тестване, което позволява на изследователите и инженерите да ускорят циклите на разработка на нови оптични системи.

4. ✅ Глобално съответствие: Материалите, несъдържащи ITAR и сертифицирани по REACH/ROHS, опростяват международните обществени поръчки. Спазването на глобалните екологични и търговски стандарти осигурява безпроблемна интеграция във веригите за доставки за многонационални проекти в научноизследователската, отбранителната и търговската индустрии.

Доверено осигуряване на качество

Всеки субстрат за сферично огледало D12.7 претърпява:

• 3-степенни проверки за чистота (чисто помещение клас 100)
• 4D интерферометрично картографиране на повърхността
• 10-годишна гаранция с архивно качество

Какво казват лидерите в индустрията

> „Субстратите на SNP Optical намалиха времето за подравняване с 40% в нашите литографски модули. Съответствието им с ISO 13485 рационализира одобренията ни от FDA.“

> – Старши инженер, Топ 5 производители на полупроводници

> „Нулево разслояване на покритието след 5,000 термични цикъла (от -40°C до 85°C). От съществено значение за нашите договори в областта на отбраната.“

> – Директор на научноизследователска и развойна дейност, доставчик на аерокосмически продукти

Въпроси и Отговори

В: Как вашето ULE® стъкло се справя с термичните промени в лазерните системи?

A: Нашият субстрат за сферично огледало D12.7 има CTE ≤5×10⁻⁸/°C, което предотвратява фокално отклонение дори при облъчване от 10 kW/cm².

В: Мога ли да получа AR покрития за 355nm лазери?

A: Да – нашите диелектрични покрития постигат R>99.5% при 355 nm с 50 J/cm² LIDT.

В: Какви документи придружават поръчките?

A: Всяка пратка включва доклади за съответствие с ISO 10110, сертификати за материали и декларации за RoHS.

В: Поддържате ли малки поръчки за научноизследователска и развойна дейност?

A: Абсолютно! Прототипните партиди (1-5 бройки) се изпращат в рамките на 15 дни с пълни метрологични данни.

Получете персонализирана оферта

Нуждаете се от 50+ броя или специализирани покрития за D12.7 сферичен огледален субстрат ? Нашите инженери ще оптимизират вашия дизайн за:

• Цена (Налични са отстъпки за обем)
• Време за изпълнение (опции за ускорена доставка)
• Производителност (Профили на кривина/покритие по поръчка)

📩 Изисквания за изпращане на имейл до: xachaona@163.com