Сферично огледало със супер ниска загуба на калциев флуорид

Сферично огледало с калциев флуорид и свръхниски загуби: прецизна оптика за приложения от следващо поколение

Когато всеки фотон е от значение, нашето сферично огледало с калциев флуорид със свръхниски загуби осигурява несравнима производителност в литография с екстремна ултравиолетова (EUV) област, ултрабързи лазери и прецизни оптични системи. Проектирани със синтетичен CaF₂ с чистота 99.99%, тези огледала минимизират загубата на светлина до <10 ppm, като същевременно запазват структурната цялост при облъчване с висока мощност. Независимо дали оптимизирате производството на чипове или разширявате границите на лазерната физика, нашите огледала предлагат повърхностна точност под нанометър и термична стабилност (±5 ppb/K) за критично важни приложения.

Защо нашите огледала се открояват

• Ултраниска абсорбция: Постигане на 99.999% отражателна способност при дължини на вълните 13.5 nm, намаляване на загубите на енергия и термичното изкривяване, критично за производството на EUV полупроводници, където дори незначителна абсорбция би нарушила моделирането на пластините, осигурявайки ефективно използване на фотоните във високопрецизни литографски процеси.
• Термична стабилност: Поддържа точност на размерите от ±0.01% дори при 100°C, идеална за мощни EUV литографски инструменти, предотвратявайки неправилно подравняване в линиите за производство на полупроводници, където температурните пикове биха могли да компрометират печатането на наномащабни схеми, осигурявайки постоянна производителност при операции с интензивно нагряване.
• Наномащабна прецизност: Грапавостта на повърхността <0.12 nm Ra (тествана чрез профилометър Zygo) осигурява минимални загуби от разсейване, жизненоважни за EUV оптиката и квантовите комуникационни системи, където разсеяните фотони биха влошили целостта на сигнала, съответствайки на прецизността, необходима за напреднали оптични приложения.
• Персонализируеми дизайни: Изберете диаметри от φ12.7 мм до φ100 мм, с радиуси на кривината (500–8000 мм), съобразени с вашата оптична конфигурация, като се вписват безпроблемно както в компактни лабораторни инструменти, така и в мащабно оборудване за производство на полупроводници, адаптирайки се прецизно към разнообразни технически изисквания.

параметри

Забележка: Спецификациите могат да бъдат съобразени с вашите специфични нужди.

Основни приложения

• EUV литография: Позволява производство на чипове с размер под 7 nm с огледала, устойчиви на термичен дрейф и замърсяване, използвайки 99.999% отражателна способност при 13.5 nm и ±0.01% размерна стабилност при 100°C за поддържане на прецизни пътища на фотоните, което е от решаващо значение за моделиране на малки схеми без изкривяване от топлина или отломки.
• Фемтосекундни лазери: Минимизирайте изкривяването на импулсите в ултрабързи лазерни кухини чрез наномащабна прецизност (грапавост на повърхността <0.12 nm Ra), като гарантирате, че импулсите запазват формата и енергията си – това намалява дисперсията, жизненоважна за приложения като микрообработка и спектроскопия, където целостта на импулсите диктува резултатите.
• Метрологични системи: Подобрете точността на измерване с нулево увреждане на подповърхността, съчетано с персонализируеми дизайни (диаметри φ12.7 мм–φ100 мм), които се вписват безпроблемно в калибровъчните настройки. Ултрагладките повърхности елиминират разсейването, гарантирайки, че показанията не са изкривени от несъвършенства на материала, което е от решаващо значение за високопрецизен размерен анализ.

Създаден за надеждност

Всяко сферично огледало с калциев флуорид и супер ниски загуби преминава през:

• 100% интерферометрично и спектроскопско тестване: Валидирайте плоскостта на повърхността и спектралните характеристики на всеки компонент, осигурявайки 99.999% отражателна способност при 13.5 nm и грапавост на Ra <0.12 nm – критично за огледала за EUV литография и фемтосекундни лазерни резонатори, където дори малки отклонения биха могли да компрометират прецизността.
• Симулации на напрежения в околната среда (термични цикли, влажност): Подлагане на компоненти на температури от -50°C до 300°C и влажност от 95%, за да се имитират реални условия, осигурявайки стабилност в EUV инструменти и метрологични системи, работещи в различни индустриални или лабораторни среди, без влошаване на производителността.
• Валидиране от трета страна за съответствие със SEMI и ISO 9001: Независимите одити потвърждават спазването на стандартите на полупроводниковата индустрия (SEMI) и системите за управление на качеството (ISO 9001), предоставяйки гаранция на клиентите от автомобилната и аерокосмическата индустрия, че компонентите отговарят на строги изисквания за надеждност и последователност за приложения с висок залог.

С доверието на лидерите в бранша

Доставяме огледала на сертифицирани по ASML производители на оригинално оборудване (OEM) и водещи изследователски лаборатории, предлагайки:

• Мащабируемо производство: Годишен капацитет от 10,000 XNUMX+ единици.
• 24/7 инженерна поддръжка: Съвместно проектиране на специфични за приложението покрития или геометрии.
• Доживотна гаранция: Гарантирана производителност с нулево разслояване или двойно пречупване.

Имате въпроси?

В: Каква UV прозрачност мога да очаквам при 13.5 nm?

A: Нашите огледала постигат >99% пропускане при 13.5 nm с многослойни Mo/Si покрития.

В: Как се осигурява грапавост на повърхността <0.5 nm?

A: Използваме магнитореологично довършително обработване (MRF) и Zygo-верифицирани измервания с пълна честота.

В: Съответстват ли вашите огледала на ITAR?

A: Да – ние предлагаме опции без ITAR и контролирани от EAR за глобални пратки.

В: Можете ли да изработвате огледала над φ100 мм?

A: Предлагат се персонализирани диаметри до φ500 мм с точност на кривината ±0.05%.

Готови ли сте да оптимизирате оптичната си система?

Изпратете имейл на xachaona@163.com за оферта или техническа консултация относно сферично огледало с калциев флуорид и супер ниски загуби . Нека разработим вашето прецизно решение още днес.